Full metadata record
DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | 용기중 | - |
dc.date.accessioned | 2018-06-20T09:08:33Z | - |
dc.date.available | 2018-06-20T09:08:33Z | - |
dc.date.created | 2009-03-27 | - |
dc.date.issued | 2006-10-27 | - |
dc.identifier.uri | https://oasis.postech.ac.kr/handle/2014.oak/72670 | - |
dc.publisher | 화학공학회 | - |
dc.relation.isPartOf | 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 | - |
dc.relation.isPartOf | 한국화학공학회 2006년도 가을총회 | - |
dc.title | ALCVD를 이용한 Hf-silicate, Ti-silicate 게이트 산화막 성장 및 특성 연구 | - |
dc.type | Conference | - |
dc.type.rims | CONF | - |
dc.identifier.bibliographicCitation | 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 | - |
dc.citation.conferenceDate | 2006-10-27 | - |
dc.citation.title | 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 | - |
dc.contributor.affiliatedAuthor | 용기중 | - |
dc.description.journalClass | 2 | - |
dc.description.journalClass | 2 | - |
- Files in This Item:
- There are no files associated with this item.
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.