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HfO2 기반 고유전율 게이트 산화물 박막의 원자층 증착법과 계면 특성 향상에 대한 연구

Title
HfO2 기반 고유전율 게이트 산화물 박막의 원자층 증착법과 계면 특성 향상에 대한 연구
Authors
맹완주
Date Issued
2009
Publisher
포항공과대학교
URI
http://postech.dcollection.net/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000001909766
http://oasis.postech.ac.kr/handle/2014.oak/9009
Article Type
Thesis
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