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OASIS Repository@POSTECHLIBRARY
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Showing results 5 to 5 of 5
Article
Improved thermal stability of Ni silicide on Si (100) through reactive deposition of Ni
SCIE
SCOPUS
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, vol. 21, no. 1, page. 319 - 322, 2003-01
Kim, GB
;
Yoo, DJ
;
Baik, HK
;
Myoung, JM
;
Lee, SM
;
et al
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